Сістэма дынамічнай факусоўкі 2.5D
Глыбокая гравіроўка, мікраапрацоўка ў невялікім полі. Прыярытэтны выбар для мікраапрацоўкі
Абалонка з ЧПУ, прадухіленне пылу, кампактная структура, лёгкая інтэграцыя.
Дадатковая канструкцыя з вадзяным астуджэннем, яна можа прымяняцца да патрабаванняў высокатэмпературнага дрэйфу.
Прымае тэхналогію кіравання лічбавай шыротна-імпульснай мадуляцыяй, валодае больш высокай хуткасцю водгуку і меншым тэмпературным дрэйфам.
FE10
FE15
FE20
Адметнасць: свідраванне, высокая дакладнасць разметкі
Фокальная кропка кантралюецца аптычна і кіруецца праграмным забеспячэннем, эфектыўна памяншаючы краі згортвання.
Дынамічны фокус можа рэалізаваць 3D прымяненне паверхні.
Няма неабходнасці ў механічным аптычным ўздыме, простая структура, лёгка дасягнуць аўтаматызацыі, павысіць эфектыўнасць.
Высокая эфектыўнасць
Дынамічная вось і вось XY цалкам скаардынаваны праграмным забеспячэннем, а шматслойная кампенсацыя факусоўкі выконваецца за мікрасекунды з высокай эфектыўнасцю.
Высокая дакладнасць
Пры пераключэнні глыбіні апрацоўкі дынамічная вось каардынавана рэгулюе фокусную адлегласць і цэнтральнае пляма ў рэжыме рэальнага часу, што дазваляе дасягнуць больш высокай дакладнасці, чым традыцыйная сканіруючая галоўка.
Прыкладанне Highlight
●Свідраванне
●Гравюра
●Супердакладная маркіроўка
Свідраванне шкла (рознай формы)
Дакладная разметка
Глыбокая разьба з цвёрдага матэрыялу
Гравіроўка (інструмент - нож)
Відэа прыкладання
Тэхнічная інфармацыя аб прадукце
| Прадметы | Уваходнае напружанне (VDC) | ±15 |
| Ток (A) | 10А | |
| Пратакол | Пратакол XY2-100 | |
| Стан астуджэння | Астуджальныя носьбіты | Дыстыляваная або дэіянізаваная вада плюс інгібітар карозіі |
| Тэмпература (°C) | 22-28 | |
| Рэкамендаваны ціск астуджэння (бар) | 2-3 | |
| Рэкамендаваны расход (л/мін) | 4-6 |
| Прадметы | Выхадная напруга (VDC) | ±15 |
| Ток (A) | 10А | |
| Пратакол | Пратакол XY2-100 | |
| Стан астуджэння | Астуджальныя носьбіты | Дыстыляваная або дэіянізаваная вада плюс інгібітар карозіі |
| Тэмпература (°C) | 22-28 | |
| Рэкамендаваны ціск астуджэння (бар) | 2-3 | |
| Рэкамендаваны расход (л/мін) | 4-6 |
| Вытворчая лінія | лінейка прадуктаў | FE10 | FE15 | FE20 |
| Вага (кг) | 5.6 | 6.7 | 9 | |
| Памер (мм) | 297*125*120 | 339*125*120 | 337*134*153,5 |
| Тэхнічныя характарыстыкі гальванометра | FE10 | FE15 | FE20 | ||||||
| Версія | Стандартны | профі | P2 | Стандартны | профі | P2 | профі | P2 | |
| Памылка адсочвання (мс) | ≤0,18 | ≤0,18 | ≤0,18 | ≤0,21 | ≤0,21 | ≤0,2 | ≤0,28 | ≤0,27 | |
| Паўтараемасць (мкрад) | 8 | 8 | 5 | 8 | 8 | 5 | 8 | 5 | |
| Тэмпературны дрэйф (мкрад/к) | <100 | <100 | <50 | <100 | <100 | <50 | <100 | <50 | |
| Доўгатэрміновы дрэйф (>24 гадзін, пакаёвая тэмпература) (мрад) | ≤0,2 | ≤0,2 | ≤0,1 | ≤0,2 | ≤0,2 | ≤0,1 | ≤0,2 | ≤0,1 | |
| Макс. хуткасць апрацоўкі (сімвал/с) (рэжым высокай якасці) | 600@100x100 | 650@100x100 | 500@100x100 | ||||||
| Працоўная тэмпература (°C) | 25℃±10℃ | ||||||||
| FE10 Аптычныя характарыстыкі | Даўжыня хвалі | 355 нм | 532 нм | 1064 нм | ||
| Памер дыяфрагмы (мм) | ≤10 мм | ≤10 мм | ≤10 мм | |||
| Параметры павелічэння ўводу | 2X | 2,66X | 2X | 2,66X | 1,16X | |
| Z глыбіня1) | ±5 мм / ± 25 мм | |||||
| FE15 Аптычныя характарыстыкі | Даўжыня хвалі | 355 нм | 532 нм | 1064 нм | ||
| Памер дыяфрагмы (мм) | ≤15 мм | ≤15 мм | ≤15 мм | |||
| Параметры павелічэння ўводу | 2X | 2,66X | 2X | 2,66X | 1,66Х | |
| Z глыбіня2) | ±5 мм / ± 25 мм | |||||
| FE20 Аптычныя характарыстыкі | Даўжыня хвалі | 1064 нм | ||||
| Памер дыяфрагмы (мм) | ≤20 мм | |||||
| Параметры павелічэння ўводу | 2,1X | 2,57Х | 2,66X | |||
| Z глыбіня3) | ±5 мм | |||||
1), 2), 3) Версіі з доўгай фокуснай адлегласцю і кароткай фокуснай адлегласцю для варыянту. Даныя ўручную заснаваны на F-θ 254 пры 150*150 мм.
Механічны малюнак
FE10
FE15
FE20
