3D динамична система за фокусиране
-
3D динамична система за фокусиране – FR30-C
3-осни отклоняващи устройства
поддържана дължина на вълната: 10640nm, 10200nm, 9400nm
Протокол XY2-100
работно поле: 300*300 мм до 1600*1600 мм
обработка на големи работни полета с малко петно
-
3D динамична система за фокусиране – FR30-F
3-осни отклоняващи устройства
поддържана дължина на вълната: 1064nm
Протокол XY2-100
версия за маркиране на извита повърхност и версия за маркиране на големи полета за опции
обработка на големи работни полета с малко петно
-
3D система за динамично фокусиране FR20-F
3-осни отклоняващи устройства
поддържана дължина на вълната: 1064nm
Протокол XY2-100
работно поле: 100*100 мм до 600*600 мм
Голяма маркировка на полето, 3D маркировка, ецване на извита повърхност, маркировка на PCB
-
3D динамична система за фокусиране – FR70-C
3-осни отклоняващи устройства
поддържана дължина на вълната: 10640nm, 10200nm, 9400nm
Протокол XY2-100
обработка на големи работни полета с малко петно
индустриално приложение от висок клас, супер производителност
максимално 2000*2000 мм работно поле
0.12@3508350mm@10640nm
0.64@2000x2000mm@10640nm
маркировка на супер голяма площ
ролка до ролка кожена маркировка
-
3D динамична система за фокусиране – FR40-F
3-осни отклоняващи устройства
поддържана дължина на вълната: 1064nm
Протокол XY2-100
обработка на големи работни полета с малко петно
В сравнение с FR30-F, 30% по-фино качество на фокусното петно
-
3D динамична система за фокусиране – FR40-C
3-осни отклоняващи устройства
поддържа дължина на вълната: 10640nm.10200nm,9400nm
Протокол XY2-100
версия за маркиране на извита повърхност и версия за маркиране на големи полета за опции
обработка на големи работни полета с малко петно
Равна на FR30-C скорост, 30% по-фино качество на фокусното петно
лазерно заснемане, щанцоване
-
3D динамична система за фокусиране – FR20-U
3-осни отклоняващи устройства
поддържана дължина на вълната: 355nm
Протокол XY2-100
работно поле: 100*100 мм до 600*600 мм
Голяма полева маркировка, 3D маркировка, ецване с извита повърхност, прецизна маркировка
-
3D динамична система за фокусиране – FR20-G
3-осни отклоняващи устройства
поддържана дължина на вълната: 532nm
Протокол XY2-100
работно поле: 100*100 мм до 600*600 мм
Голяма полева маркировка, 3D маркировка, ецване с извита повърхност, прецизна маркировка
-
3D система за динамично фокусиране FR15-F
3-осни отклоняващи устройства
поддържана дължина на вълната: 1064nm
Протокол XY2-100
3D печат, Адитивно производство
-
3D система за динамично фокусиране一FR10-U
3-осни отклоняващи устройства
поддържана дължина на вълната: 355nm
Протокол XY2-100
работно поле: 100*100 мм до 600*600 мм
Голяма маркировка на полето, 3D маркировка, ецване на извита повърхност, маркировка на PCB
-
3D динамична система за фокусиране – FR10-G
3-осни отклоняващи устройства
поддържана дължина на вълната: 532nm
Протокол XY2-100
работно поле: 100*100 мм до 600*600 мм
Голяма полева маркировка, 3D маркировка, ецване на извита повърхност
-
3D динамична система за фокусиране一FR10-F
3-осни отклоняващи устройства
поддържана дължина на вълната: 1064nm
Протокол XY2-100
работно поле: 100*100мм и 200*200мм
лазерно маркиране на влакна, 3D лазерно гравиране, лазерно ецване