3D dynamisch focussysteem一FR10-F
Toepassingen
Meerdere toepasselijke omgevingen
Zonder het extra bewegende platform kan het dynamische focussysteem nauwkeurige 3D-markering, gravering en andere lasertoepassingen realiseren.
Eenmalige 3D-markering zonder chromatisch verschil
Markering van 3D-trackingcode voor oppervlakken
3D-oppervlaktegravure
Mannelijke en vrouwelijke mal graveren
Speciaal materiaal diepgraveren (materiaal: SIC)
Toepassing hoogtepunt
Laserapparaattypes voor graveerwerk
Voor het bewerken van de gravure raden wij een pulslaser van minder dan 100 watt aan. Hoewel een laser met hoog vermogen een diepere enkellaagse etsing kan hebben, zal dit echter leiden tot materiaalslak en de graveernauwkeurigheid beïnvloeden.
Hoe kan lasergraveren nauwkeuriger zijn?
De correctieprecisie van het dynamische focussysteem heeft een aanzienlijke invloed op het graveereffect.
We openen het automatische CCD-correctieplatform en opties voor scannercorrectietools voor gebruikers indien nodig.
Bovendien zal de FEELTEK-instructievideo ook laten zien hoe u precisiecorrectie kunt bereiken.
Materialen voor graveren
Geschikt materiaal voor F10: messing, koolstofstaal, vormstaal, roestvrij staal, SIC enz.
FEELTEK kan de toepassingsrichtlijnen voor de bovengenoemde materialen delen.
Gebruiksvriendelijke Dynamic Focus-systeemsoftware
--LenMark_3DS
Eenvoudige bediening
De zelf ontwikkelde LenMark-software is specifiek voor dynamische focuscontrole. De 3D-interface is eenvoudig te bedienen, kan 3D-afbeeldingen rechtstreeks importeren, bewerken en in kaart brengen, en snel de nauwkeurige verwerkingscontrole van het 3D-oppervlak realiseren.
Schakelen tussen taalinterfaces
Via de menubegeleiding kan de software-interface in verschillende talen worden gewijzigd zonder de software opnieuw te starten.
Producttechnische informatie
Artikelen
Voeding | Uitgangsspanning (VDC) | 士15VDC |
Stroom (A) | 10A | |
Uitvoerinterface | xY2-100-protocol | |
Omgevingstemperatuur (℃) | 25 en 10 | |
Opslagtemperatuur (℃) | -10~+60 | |
Vochtigheid | ≤75% niet-condenserend | |
Gewicht | 7kg |
Specificaties
Productlijn | F10 / F10Pro | |
ptisch specificaties | Ondersteuning golflengte | 1064 mm |
Openingsgrootte (mm) | 10 | |
Ingangsstraaldiameter (mm) | 8.5 | |
Galvanometer Specificaties | Aftastenhoek (°) | ±10 |
Herhaalbaarheid (μrad) | 8 | |
Max.Versterkingsafwijking (ppm/k) | 100 | |
Max. Offsetafwijking (μrad/k) | 30 | |
Langdurige afwijking van meer dan 8 uur (mrad) | ≤0,3 | |
Trackingfout (ms) | ≤0,13 | |
Max. verwerkingssnelheid (charaters/s) | 600@100x100 |
Opmerking:Verschil tussen standaardversie en Pro. Versie:Hogere galvoconfiguratie voor Pro. Versie.
Volgens het testrapport is Pro. De versie presteert beter onder een langdurige, continue werkomgeving.
Werkveld- en spotdiameter
Werkveld (mm) | 100×100×15 | 200×200×80 | |
De min. spotdiameter @ 1/e2 (mm) | 0,025 | 0,0415 | |
Brandpuntsafstand (mm) | 114 | 234 |