Sistema de foco dinâmico 2.5D
Gravação profunda, microprocessamento de campo pequeno Escolha prioritária para microprocessamento
Casca CNC, prevenção de poeira, estrutura compacta, fácil de integrar.
Design opcional de resfriamento de água, pode ser aplicado a requisitos de deriva de alta temperatura.
Adota a tecnologia de condução de modulação de largura de pulso digital, possui maior velocidade de resposta e menor desvio de temperatura.
FE10
FE15
FE20
Destaque: perfuração, marcação de alta precisão
O ponto focal é controlado pela óptica e pode ser controlado por software, reduzindo efetivamente a borda de colapso.
O foco dinâmico pode realizar a aplicação de superfície 3D.
Não há necessidade de levantamento óptico mecânico, uma estrutura simples e fácil de obter automação, melhorando a eficiência.
Alta eficiência
O eixo dinâmico e o eixo XY são totalmente coordenados por software e a compensação de foco em camadas é concluída em microssegundos com alta eficiência.
Alta precisão
Com a mudança da profundidade de processamento, o eixo dinâmico ajusta coordenadamente a distância focal e ajusta o ponto central em tempo real, o que pode alcançar maior precisão do que o scanhead tradicional.
Destaque do aplicativo
●Perfuração
●Gravação
●Marcação de super precisão
Perfuração de vidro (formato diferente)
Marcação de precisão
Escultura profunda em material duro
Gravação (ferramenta faca)
Vídeo de aplicação
Informações Técnicas do Produto
| Unid | Tensão de entrada (VCC) | ±15 |
| Atual(A) | 10A | |
| Protocolo | Protocolo XY2-100 | |
| Condição de resfriamento | Meio de resfriamento | Água destilada ou desionizada mais inibidor de corrosão |
| Temperatura (°C) | 22-28 | |
| Pressão de resfriamento recomendada (bar) | 2-3 | |
| Taxa de fluxo recomendada (l/min) | 4-6 |
| Unid | Tensão de saída (VCC) | ±15 |
| Atual(A) | 10A | |
| Protocolo | Protocolo XY2-100 | |
| Condição de resfriamento | Meio de resfriamento | Água destilada ou desionizada mais inibidor de corrosão |
| Temperatura (°C) | 22-28 | |
| Pressão de resfriamento recomendada (bar) | 2-3 | |
| Taxa de fluxo recomendada (l/min) | 4-6 |
| Linha de produção | linha de produtos | FE10 | FE15 | FE20 |
| Peso (KG) | 5.6 | 6.7 | 9 | |
| Tamanho (mm) | 297*125*120 | 339*125*120 | 337*134*153,5 |
| Especificações do galvanômetro | FE10 | FE15 | FE20 | ||||||
| Versão | Padrão | Pró | P2 | Padrão | Pró | P2 | Pró | P2 | |
| Erro de rastreamento (ms) | ≤0,18 | ≤0,18 | ≤0,18 | ≤0,21 | ≤0,21 | ≤0,2 | ≤0,28 | ≤0,27 | |
| Repetibilidade (μrad) | 8 | 8 | 5 | 8 | 8 | 5 | 8 | 5 | |
| Desvio de temperatura (μrad/k) | <100 | <100 | <50 | <100 | <100 | <50 | <100 | <50 | |
| Desvio de longo prazo(>24h, temperatura ambiente)(mrad) | ≤0,2 | ≤0,2 | ≤0,1 | ≤0,2 | ≤0,2 | ≤0,1 | ≤0,2 | ≤0,1 | |
| Velocidade máxima de processamento (caracteres/s) (modo de alta qualidade) | 600@100x100 | 650@100x100 | 500@100x100 | ||||||
| Temperatura operacional (°C) | 25°C±10°C | ||||||||
| FE10 Especificações ópticas | Comprimento de onda | 355 nm | 532 nm | 1064nm | ||
| Tamanho da abertura (mm) | ≤10 mm | ≤10 mm | ≤10 mm | |||
| Opções de ampliação de entrada | 2X | 2,66X | 2X | 2,66X | 1,16X | |
| Profundidade Z1) | ±5mm / ±25mm | |||||
| FE15 Especificações ópticas | Comprimento de onda | 355 nm | 532 nm | 1064nm | ||
| Tamanho da abertura (mm) | ≤15 mm | ≤15 mm | ≤15 mm | |||
| Opções de ampliação de entrada | 2X | 2,66X | 2X | 2,66X | 1,66X | |
| Profundidade Z2) | ±5mm / ±25mm | |||||
| FE20 Especificações ópticas | Comprimento de onda | 1064nm | ||||
| Tamanho da abertura (mm) | ≤20 mm | |||||
| Opções de ampliação de entrada | 2,1X | 2,57X | 2,66X | |||
| Profundidade Z3) | ±5 mm | |||||
1), 2), 3) Distância focal longa e versão de distância focal curta para opção. Os dados manuais são baseados em F-θ 254 abaixo de 150*150mm.
Desenho Mecânico
FE10
FE15
FE20
